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产品型号：
更新时间：2026-09-03
厂商性质：代理商
访问量：9
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产品分类
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| 品牌 | StellarNet | 价格区间 | 20万-30万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 环保,化工,能源,电子/电池,综合 |
StellarNetThin film Metrology薄膜测量系统产品概述：
薄膜量测是现代光学镀膜、半导体器件、显示器件、光伏材料以及高性能功能化表面研发与生产环节的重要手段。对膜层厚度、光学特性以及镀膜均匀性开展精准表征，有助于保障产品性能、工艺稳定性以及生产良率。
StellarNet 薄膜量测系统融合先进光谱分析与光谱反射检测技术，配套高性能光谱仪、光学配件以及功能优异的分析软件，实现各类薄膜与镀膜样品检测。该设备平台适配光学镀膜表征、半导体量测、工艺监控以及前沿材料研究，可应用于科研、生产、质量控制等多种场景。
薄膜厚度测量：
采用非接触式光谱光学技术测量薄膜与涂层厚度，适用于光学镀膜、半导体器件、显示器件以及前沿材料研究场景。
反射‑透射光谱法
通过分析反射光信号，测定薄膜厚度与光学特性。可对镀膜开展表征及工艺监控，检测速度快、结果准确。
行业应用：
了解薄膜测量系统如何服务于多行业的科研、生产以及质量控制工作。
可测量半导体制造中的各类薄膜、介质层、光刻胶以及沉积涂层，支持晶圆表征、工艺监控与质量控制。
太阳能与光伏测量：
借助光谱光学技术分析薄膜太阳能电池、光伏镀膜及能源材料，可用于研发以及生产质量验证。
显示技术测量
对 LCD、OLED 以及 Micro‑LED 显示屏所用薄膜与涂层开展表征，支持工艺开发、质量保证以及显示性能评估。
光子器件测量采用非接触薄膜量测与光学表征技术，对硅光子学器件、光子集成电路（PIC）、光波导、激光光学器件以及量子光子器件开展表征。
光学镀膜测量可对增透膜、光学滤光片、反射镜以及激光光学元件进行表征。借助光谱量测技术，核验镀膜厚度、均匀性以及光学性能。
StellarNet Thin film Metrology薄膜测量系统选型表：
| 型号 | 波长范围 | 分辨率 | 膜厚范围 | 光源类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|---|
| TF-VIS | 400–1000 nm | <2 nm | 10 nm–75 μm | 可见光 / 近红外 | $11,500 |
| TF-UVVIS | 200–1100 nm | <2.5 nm | 1 nm–75 μm | 紫外 + 可见光 / 近红外 | $14,625 |
| TF-NIR | 900–1700 nm | <5 nm | 100 nm–300 μm | 可见光 / 近红外 | $22,655 |
| TF-VIS-NIR | 400–1700 nm | <2 nm（可见光），<5>1000 nm） | 10 nm–300 μm | 可见光 / 近红外 | $25,280 |
| TF-UVVIS-NIR | 200–1700 nm | <2 nm（可见光），<5>1000 nm） | 1 nm–300 μm | 紫外 + 可见光 / 近红外 | $28,245 |
显微测量系统：
| 型号 | 配置说明 | 价格 |
|---|---|---|
| TF-Micro | StellarNet 定制显微镜，配备 4×、10×、40× 物镜，CMOS 130 万像素相机，光开关及所需耦合配件 | $11,550.00 |
| TF-Micro-AM | StellarNet 定制自动映射显微镜，配备 4×、10×、40× 物镜，CMOS 130 万像素相机，光开关及所需耦合配件 | $30,975.00 |
技术规格：
| 规格项 | 规格值 | 说明 |
|---|---|---|
| 精度 | 0.1 埃或 0.01%（取较大值） | 重复测量的一致性 |
| 准确度 | 0.2% 或 10 埃（取较大值） | 受膜层堆叠结构影响 |
| 稳定性 | 0.2 埃或 0.02%（取较大值） | 长时间测量稳定性 |
| 光斑尺寸 | 标准 3 毫米，最小可选至 3 微米 | 测量区域大小 |
| 样品尺寸 | 最小 1 毫米起 | 可测样品最小尺寸 |
| 电脑操作系统 | StellarPro‑TFC 软件，支持 32 位与 64 位操作系统 | 兼容 Windows 32/64 位 |
